据报道，阿斯麦控股的研究人员表示，他们已发现一种提升关键芯片制造设备光源功率的方法，这一突破有望使芯片产量到2030年提升高达50%。
“这不是把戏，也不是那种只能短暂展示可行性的噱头，”阿斯麦负责极紫外（EUV）光源的首席技术专家Michael Purvis在接受采访时表示，“这是一套在客户现场相同要求下可输出1，000瓦功率的系统”
报道称，借助周一披露的这一技术进展，阿斯麦力求通过改进设备中技术难度最高的环节，与潜在竞争对手进一步拉开差距。
阿斯麦的研究人员已找到将EUV光源功率从目前的600瓦提升至1，000瓦的方法。
阿斯麦负责NXE系列EUV设备的执行副总裁Teun Van Gogh表示，到本十年末，客户使用每台设备每小时可处理约330片硅晶圆，高于目前的220片。
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责任编辑：陈钰嘉
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